高能量脈衝式磁控濺射技術是新型磁控濺射系統。電源在鍍層過程中相當重要。此技術結合「高能量」和「脈衝式」兩大特徵放電,在少於兩微秒的時間內發出強大能量,猶如閃電現象。由於放電過程中釋放大量離子,消除鍍膜內應力,因此可以在無損產品或工件表面的情況下,製成厚離子鍍層。這種鍍層方式可以提高離化率,改善塗層在產品表面的附著力。

此技術能超越傳統磁控濺射方法,製作高質量的厚離子鍍層。另外,此技術有利增加離子密度,加強鍍層與底材之間的連接,從而減低產品表面粗糙度。

透過此技術製作鍍層能有效利用等離子體,控制塗層結構,提升耐腐蝕性及表面光潔度。其他應用範疇包括:為結構複雜的幾何工件均勻添加塗層、增強功能性部件的耐磨能力並減少替換次數、以及保持裝飾產品的外觀及耐用度。

優點

  • 耐腐蝕性強
  • 耐磨能力高、減低工件替換次數
  • 表面光潔
  • 厚離子鍍層

用途

  • 功能部件
  • 裝飾鍍層
  • 金屬手機殼
  • 模具
  • 手錶

等離子表面處理適用於高檔產品,如眼鏡框,手錶錶帶等。等離子表面處理適用於高檔產品,如眼鏡框,手錶錶帶等。

高能量脈衝式磁控濺射技術高能量脈衝式磁控濺射技術